人人最大芯片代工企业台湾积体电路制造公司（台积电，2330.TW）一位高管周二示意，该公司仍在评估何时会在将来制程节点中遴选 ASML（阿斯麦）顶端的高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻机。
芯片制造商正在衡量：这些单价近 4 亿好意思元的缔造所带来的速率和精度上风，何时能最初其近乎翻倍的价钱 —— 这类缔造已是芯片制造厂里最沸腾的装备。
当被问及台积电是否运筹帷幄在行将推出的 A14 制程偏激将来增强版节点中使用该缔造时，Kevin Zhang 示意，公司尚未找到令东谈主折服的意义。
他在一场新闻发布会上称：“我所谈到的 A14 增强版，在不使用 High-NA 的情况下也能完了要紧冲破。因此咱们的技艺团队正执续探索技艺，通过挖掘现存（低数值孔径 EUV 缔造）的缩放效益来延伸其使用寿命。”
Zhang 补充谈：“唯有他们能不息找到技艺，昭着咱们就不消使用它。”
竞争敌手英特尔（Intel）已运筹帷幄在其名为 14A 的将来制造工艺中遴选 High-NA EUV 缔造，试图重振其芯片代工业务并更好地与台积电竞争。
不外英特尔也示意，客户仍可弃取使用更进修的旧技艺。
在 ASML 上一次财报发布时间，首席奉行官克里斯托夫・福凯（Christophe Fouquet）曾示意，展望客户将在 2026 至 2027 年时间对 High-NA 缔造进行大王人量分娩测试，之后才会在起先进制程节点中评估该器具的行使。
昨年，Zhang 曾向记者流露，台积电不会在 A16 制程中使用 High-NA 缔造，并直言不心爱其标价。
适度现在，ASML 已向人人三个客户（包括英特尔、台积电和三星）录用了五台这款重达 180 吨的双层结构缔造。
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